艾斯邁科技股份有限公司

◎ 效益：

• 提高KLA設備稼動率與節省上機成本

• 數據化判定微塵，取代過去人工目檢

◎ 應用：

• 45 – 7 nm 製程中先進半導體元件的光罩檢測
  

• Mask Shop 之 OQC

• Pellicle Manufacturer