艾斯迈科技股份有限公司

◎ 效益：

• 数据化判定微尘发生之制程站别，提高产品良率

• 验证新设备洁净度，助于新设备上线前之预判，提高产品良率

◎ 应用：

• 28 – 5 nm 制程中先进半导体元件的光掩膜检测
  

• Mask Shop 之光掩膜各站制程监控