艾斯迈科技股份有限公司

◎ 效益：

• 提高KLA设备稼动率与节省上机成本

• 数据化判定微尘，取代过去人工目检

◎ 应用：

• 45 – 7 nm 制程中先进半导体元件的光掩膜检测

• Mask Shop 之 OQC

• Pellicle Manufacturer