艾斯迈科技股份有限公司

◎ 效益：

• 不因他牌检测设备异常，影响光刻机设备稼动率

◎ 应用：

• 45 – 16 nm 制程中先进半导体元件的光掩膜检测

• Foundries 之光掩膜进货 / 光刻前检测