UNICORN-820 Series
★2016年TSMC品質賞第1位★
◎ 特長：
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28 nm – 5 nm プロセスのマスク検査に対応
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SMIF POD の開閉が不要なため、検査時に新たな汚染がない
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Blank / ADI / AEI における細塵リアルタイムモニタリング
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EUV マスク裏面 / ダイの細塵リアルタイムモニタリング
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高精度の欠陥位置検出技術
◎ 対象：
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マスクショップの Processing Inspection
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Mask Blank Manufacturers
