AceMach Co., Ltd.

◎ 特長：

• 45 nm – 7 nm プロセスのマスク検査に対応

• ピンホール検査

• Inner Frame、Pellicle Side のパーティクル検査

• 膜上 / 膜下のパーティクルを分析する専用アルゴリズム

• 高精度の欠陥位置検出技術

◎ 対象：

• マスクショップの OQC

• Pellicle Manufacturers