◎ 2020
初代 Defect Classification System 発売
2代目EUV Pellicle Inspection Tool 発売
◎ 2019
研究開発センター拡大
3代目 Through POD Mask Inspection Tool 発売
3代目 OQC Mask Inspection Tool 発売
2代目 EUV Mask Inspection Tool 発売
光 CD 計測 Optical CD Measure の研究開発を開始
AI 分類技術 Defect Classification の研究開発を開始
◎ 2018
初代 EUV Pellicle Inspection Tool 発売
初代 EUV Mask Inspection Tool 発売
ファウンドリ向けフォトマスク検査技術の研究開発を開始
◎ 2017
2代目 Through POD Mask Inspection Tool 発売
3つの特許证を取得
EUV Mask 及び EUV Pellicle 検査技術の研究開発及び実用を開始
◎ 2016
2代目 OQC Mask Inspection Tool 発売
6つの实用新案登錄证を取得
◎ 2015
初代 Through POD Mask Inspection Tool 発売
Through POD Mask 検査技術の実用開始
◎ 2014
Through POD Mask 検査技術の研究開発を開始
初代 OQC Mask Inspection Tool 発売
マスクショップ向けフォトマスク検査技術の研究開発及び実用を開始
◎ 2012
1つの实用新案登錄证を取得
◎ 2011
艾斯邁科技股份有限公司（AceMach Co., Ltd.）拡張
◎ 2003
艾斯邁科技有限公司（AceMach Ltd.）設立
